CVD设备用钨加热子
CVD设备用钨加热子指的是用于化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition, CVD）设备中提供稳定高温热场以实现半导体薄膜、光学薄膜及功能材料的沉积生长的电阻加热元件。它采用高纯度钨丝或掺杂钨丝经过精密绞合、绕制、成型及表面处理工艺制成，应用于半导体薄膜、生长涂层及功能材料制备等。
在CVD高温反应环境中，加热元件的选择直接影响沉积速率与膜层均匀性。中钨智造生产的化学气相沉积设备用钨加热子具有以下特性：
（1）耐高温：熔点达3410℃，可在长时间高温反应中保持结构稳定；
（2）低污染：蒸气压低，在反应气氛中挥发少，有助于维持腔体洁净度；
（3）热稳定：热膨胀系数低，在升降温循环中形变小，结构稳定性较好；
（4）加热均匀：电阻特性稳定，可形成连续辐射热场，提高温度一致性。
中钨智造根据CVD设备结构与工艺需求，提供多种钨加热子规格方案：
（1）材料：纯钨丝/掺杂钨丝，如K、Si、Al掺杂体系
（2）丝径：0.2mm~1.2mm，可定制
（3）结构：单股/多股绞合，如2股、3股、4股、6股等
（4）形状：驼峰型、漏斗型、线圈型、直条型、门型及定制异形结构
钨加热子主要用于CVD设备反应腔加热系统，为硅基、碳基及金属化合物薄膜生长提供稳定热环境，广泛应用于半导体外延生长、光学薄膜沉积、硬质涂层及功能材料制备等工艺中。
中钨智造深耕钨加热子领域30多年，可按照客户腔体结构、气流分布及工艺温度需求，对钨丝直径、掺杂类型、结构形式、有效发热长度及引线结构进行系统优化设计，并配合电解抛光或碱洗等表面处理工艺，实现从材料选型到结构制造的定制化服务。
如有任何钨加热子的设计、生产、需求、询价等问题，请联系制造商：中钨智造（厦门）科技有限公司
联系电话： 0592 5129696 / 0592 5129595
微信：
更多信息>>